2000年度学術論文

 
トムソン効果に及ぼす高密度電流起因原子拡散の影響についての検討　[日本機械学会東北支部　第36期総会・講演会　講演論文集, No.011-1, (2001-3/10), 160-161]
笹川和彦, 吉田直樹, 坂真澄

Effect of Atomic Diffusion under High Current Density on Thomson Effect [Proc. The 36th. JSME Tohoku Division Annual Meeting, No.011-1, (2001-3/10), 160-161]
K. Sasagawa, N. Yoshida and M. Saka



エレクトロマイグレーション損傷支配パラメータを用いた表面に保護膜を有する多結晶配線の断線予測法　[日本機械学会　第13回計算力学講演会　講演論文集, No.00-17, (2000-11/28~30), 679-680]
笹川和彦, 長谷川昌孝, 坂真澄, 阿部博之

Prediction Method of Electromigration Failure in Passivated Polycrystalline Line by Using Governing Parameter of Electromigration Damage [Proc. The 13th JSME Computational Mechanics Conference, No.00-17, (2000-11/28~30), 679-680]
K. Sasagawa, M. Hasegawa, M. Saka and H. Abé



エレクトロマイグレーション損傷支配パラメータを用いたLSI配線の断線予測　[第1回マイクロマテリアルシンポジウム　講演論文集, (2000-9), 46-49]
笹川和彦, 坂真澄, 阿部博之

Prediction of LSI Metal Line Failure Using Governing Parameter for Electromigration Damage [Proc. The 1st Symposium on Micromaterials, (2000-9), 46-49]
K. Sasagawa, M. Saka and H. Abé



Prediction of Bamboo Line Failure by Using a Governing Parameter of Electromigration Damage [Proc. of Int. Workshop on Sensing and Evaluation of Materials System, Sendai, Japan, Eds. M. Saka, H. Soyama, (2000-8/22), 25-32]
K. Sasagawa, K. Naito, M. Hasegawa, M. Saka and H. Abé



表面に保護膜を有する多結晶配線におけるエレクトロマイグレーション損傷支配パラメータ　[日本機械学会　2000年度年次大会　講演論文集(II), No.00-1, (2000-8), 25-26]
笹川和彦, 長谷川昌孝, 八木学, 坂真澄, 阿部博之

Governing Parameter for Electromigration Damage in Polycrystalline Line Covered with Passivation Film [Proc. 2000 JSME Annual Meeting (II), No.00-1, (2000-8), 25-26]
K. Sasagawa, M. Hasegawa, M. Yagi, M. Saka and H. Abé



Electromigration Damage in Bamboo Line [Proc. of an Int. Conf. of Mechanics for Development of Science and Technology, Xi'an, China, Ed. G.C. Sih, Vol.II, (2000-6/13~16), 847-852]
K. Sasagawa, M. Hasegawa, M. Saka and H. Abé